【Live配信・WEBセミナー】
EUVリソグラフィの最新動向・
レジスト材料開発と評価・プロセス技術

■日時：2021年01月28日(木) 13:30〜17:30 ■会場：※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です ※　お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ず、ご確認ください。 ■定員：30名 ■受講料：44,000円(税込、テキスト費用を含む) 　※複数でのご参加を希望される場合、お申込み追加1名ごとに￥11,000加算となります ■主催：(株)AndTech ■講師： 第1部　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所　所長 　　　　　　　　　 EUVリソグラフィー研究開発センター長　教授　渡邊　健夫　氏 第2部　関西大学　化学生命工学部　化学・物質工学科 　　　　　　　　　　　　　　教授　兵庫県立大学客員教授（兼任）工藤　宏人　氏 第3部　富士フイルム(株)　R&D 統括本部　エレクトロニクスマテリアルズ研究所 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　マネージャー　藤森　亨　氏

∽∽───────────────────────∽∽ 第1部　EUVリソグラフィ・レジスト材料の最新動向 【講演主旨】 　極端紫外線リソグラフィー（EUVL）技術がスマートフォン用中央演算素子の半導体量産技術と して量産展開されています。 　EUVL技術の現状と課題について紹介するとともに、今後の半導体微細加工技術の展開をについて 解説をします。特にEUVL用フォトレジストを中心にこれまでの変遷と今後の展開について紹介 します。併せて、EUVLの短波長化についても今後の半導体微細加工技術の中で取り上げます。 【プログラム】 ※　現在、考案中でございます。 【質疑応答】 　∽∽───────────────────────∽∽ 第2部　極端紫外線用レジスト材料の分子設計 【講演趣旨】 　高解像性を目的とした極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術が実用化され、実際に2020年より 生産ラインが稼動されつつあるが、さらなる高解像性に、新規EUVレジスト材料の開発が求め られている。レジスト材料には、溶解性、成膜性および耐熱性等の物理的特性に加え、高露光 感度、高解像性、パターン幅のばらつきの低減などのレジスト特性が要求される。これらの 要求を満たすポリマーやオリゴマーの分子設計についての最新動向について解説する。 【プログラム】 ※　現在、考案中でございます。 【質疑応答】 　∽∽───────────────────────∽∽ 第3部　EUVリソグラフィ用フォトレジスト開発 【講演趣旨】 　昨今、私たちは新たなデジタル社会を迎え入れようとしている。世の中で頻繁にその言葉を 耳にするSociety 5.0、IOT、AIの発展に対し、さらなる電子デバイスの高速化、大容量化、 省電力化が求められており、その勢いはとどまるところを知らない。その実現に不可欠なのが リソグラフィの微細化であり、それに必要なフォトレジスト材料の開発である。フォトレジスト 材料の微細化の歴史および究極の微細化とまで言われているEUVリソグラフィ用フォトレジスト 材料の開発について解説する。 【キーワード】 EUVレジスト、化学増幅型レジスト、メタルレジスト、アウトガス、ストカスティック ネガティブトーンイメージング 【プログラム】 1．私たちの世の中を取り巻く環境の変化 　1-1　アナログからデジタルへ 　1-2　電子デバイスの高速化、大量良化、省電力化の例 2．リソグラフィ微細化の歴史 　2-1　ムーアの法則を実現する露光波長短波化によるリソグラフィの微細化 　2-2　EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命 　2-3　ArF液浸リソグラフィ延命の切札、富士フイルムによるNegative tone imaging（NTI） 技術の発明 3．EUVリソグラフィ 　3-1　EUVリソグラフィの歴史　 　3-2　国家プロジェクトであるEIDEC（EUVL基盤開発センター）出向時のEUVリソグラフィ要素 開発の経験紹介 （アウトガス問題の解決と世界アライン、メタルレジストの技術開発） 　3-3　EUVレジスト最新動向、技術開発の紹介 　　　ストカスティック因子低減と量産適用に対する開発 【質疑応答】