■日時：2024年09月10日(火) 13:00～17:30
■会場：※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です
※ お申込み時に送られるWEBセミナー利用規約・マニュアルを必ず、ご確認ください。
■定員：30名
■受講料：49,500円（税込、資料作成費用を含む）
※複数でのご参加を希望される場合、お申込み追加1名ごとに16,500円が加算となります
■主催：(株)AndTech
■講師：
第1部 山形大学大学院 有機材料システム研究科 教授 伊藤 浩志 氏
第2部 芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏
第3部 三菱ガス化学株式会社 東京研究所・主任研究員 田中 博康 氏
■プログラム：
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第1部 熱式およびUV式ナノインプリントプロセスによる微細構造転写の基礎・その形成機構
【講演主旨】
ナノインプリンによる微細構造の表面転写は、熱式による加熱・加圧方式や紫外線硬化樹脂の塗布
とその紫外線樹脂を微細構造とするポリマーの精密転写成形である。各方式では、熱による粘弾性の
制御や紫外線による架橋度の制御が重要である。求められる精度や品質のハードルは高く、ポリマー
の塗布技術、加圧による変形、金型との離型など、さまざまな課題を抱えています。
本講演では今後も発展を続けるナノインプリント技術の需要に対して、主に加工プロセスによる微
細構造の形成に注目し、熱可塑性ポリマーや紫外線硬化材料となるポリマーの特性、加工技術、その
形態の賦形の基礎について解説します。
【講演のポイント】
ポリマー特性と微細構造の転写について、その基礎と機構について平易に解析します。そのうえで、
微細構造と光学デバイスや防汚特性などへの応用展開やプロセス・材料設計などの最新の動向につい
て紹介します。
【習得できる知識】
①ポリマーの基礎とインプリント加工性の基礎
②熱式インプリントの加工条件と微細転写性の関係
③紫外線インプリントの加工条件と転写性の関係
【講演キーワード】
熱式インプリント、紫外線硬化式インプリント、ロールツーロール式転写技術、構造形成、表面特性
【プログラム】
1．はじめに
1-1 ポリマーの基礎（特性と高次構造）
1-2 ポリマーの成形加工（インプリント、ロール、射出成形 他）
1-3 成形加工における高次構造と物性
２．熱式インプリントによる微細構造
2-1 バッチ式プロセスによる表面微細構造
2-2 ロールツーロール式による連続微細転写成形
3．ＵＶ式インプリントによる微細構造
3-1 ロールツーロール式による連続微細転写成形
４．微細構造による機能化（光学、防汚性）
4-1 ナノ構造の転写性と機能化
4-2 最新の研究動向
【質疑応答】
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例
【講演主旨】
低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに
超精密加工機による金型加工にも触れます。
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット
化へのアプローチとして注目されている「Roll to Roll方式」の装置開発状況について説明し、デ
バイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サ
イズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説します。
【講演のポイント】
「講演主旨」参照ですが，LEDの高輝度化，ウエハレベルレンズの製作，大面積 (G2 (370×470mm) )
サイズのWire Grid Polarizer (ワイヤーグリッド偏光子)といった実際のデバイスに適用した発表事
例は非常に少ないと思います。
【習得できる知識】
①ナノインプリント手法・デバイス作成における問題点・注意点・判断基準
②ナノインプリント装置の設計と評価
【講演キーワード】
ナノインプリント、LED、深紫外LED、ウエハレベルレンズ、WLL、ワイヤーグリッド偏光子、Wire
Grid Polarizer、大面積インプリント。Roll to Roll、Roll to Sheet、Roll to Plate
【プログラム】
１．芝浦機械株式会社の紹介
２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモール
ド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜
（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
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第3部 光学系硬化用樹脂の開発動向とナノインプリント材料への応用
【講演主旨】
光学デバイスの小型高機能化やメタバースの進展により光学系硬化用樹脂への期待が高まりを見せ、
とりわけ、ナノインプリント技術の展開が期待されています。
本講座では、高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』のナノインプリントプロセスへの適用例をもとに、
インプリント材料に求められる材料特性、離形・欠陥制御などのナノインプリントプロセスにおける
要求事項を解説します。また、回折素子、XRデバイスなどの事例をもとに、今後のインプリントプロ
セスの展望についても解説します。
【講演のポイント】
光学樹脂材料の市場から求められるナノインプリント技術について、高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』
の事例を通して解説します。
また今後ナノインプリントの応用が期待される光学デバイスについて解説します。
【習得できる知識】
①光学デバイスに使用される樹脂材料について
②硬化性材料の光学デバイスへの適用について
③ナノインプリントに用いられているポリマーとそれに対する要求特性について
④ナノインプリントプロセスにおける要求事項について
⑤ナノインプリントプロセスの応用が期待されるデバイス作製について
【講演キーワード】
UV硬化、高屈折率、回折素子、XR向け素材、メタレンズ
【プログラム】
1.光学デバイスへの樹脂材料の展開
1.1 光学デバイスに使用される樹脂材料
1.2 三菱ガス化学の光学材料開発
1.3 光学デバイスへの硬化性樹脂の展開
2.ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの特徴
2.2 ナノインプリント技術の展開
2.3 インプリント成形に求められる材料特性
2.4 微細構造賦形のための転写技術
3.光学デバイスにおけるナノインプリント技術の将来展望
3.1 回折素子への応用
3.2 XR向けインプリント材料
3.3 メタレンズへの応用
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