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メタマテリアル・メタサーフェスの基礎と応用

■開催日時:2019年6月10日(月)13:30〜16:30 

■会場:『ちよだプラットフォームスクウェア』 (東京都千代田区)

■受講料:48,000円(税込、資料付き/1人)

■主催:(株)シーエムシー・リサーチ

■講師:岩見 健太郎 氏
 東京農工大学 大学院工学研究院先端機械システム部門 准教授

【講師経歴】
 2003年 東北大学工学部卒
 2008年 東北大学大学院 工学研究科 博士後期課程修了,博士(工学)
 2005年―2008年に日本学術振興会特別研究員(DC1)
 2008年より 東京農工大学大学院 工学府機械システム工学専攻 助教
 2011年―2012年に米国Stanford大学 Visiting Scholar
 2012年より農工大 准教授.N/MEMSとプラズモニクスの融合を研究テーマとし,新規光学素子や
光位相変調素子,太陽熱光発電システムの研究に従事

【活 動】
 IEEE、応用物理学会、電気学会、日本機械学会所属。

■趣旨:
 自然界にない光学特性を示す人工物質であるメタマテリアルは、製作の困難さから光の波長に
おける製作例は少ない。一方リソグラフィ技術の進展によって、平面的な金属構造を容易に製作
することが可能となった。とくに金属ナノ構造で生じるプラズモン共鳴などの応答を自在に制御
することで、極薄の光学素子を形成する研究が近年進展している。この分野はメタサーフェスと
呼ばれ、メタマテリアルの中でも特に実用化に近い分野として期待されている。本セミナーでは、
メタサーフェスの原理・特徴、作製方法と応用について述べる。

■セミナー対象者:
 プラズモニクスの研究者/メタマテリアルの研究開発者、MEMS技術の従事者、新規ナノ材料の
研究開発者/新規光学現象の研究者、次代の技術シーズ調査担当者/新規研究テーマ探索担当者
など

■セミナーで得られる知識:
 メタサーフェスの原理・特徴、作製方法と応用


※ 適宜休憩が入ります。

1 メタマテリアルの基礎
 1.1 メタマテリアルとは
  1.1.1 物質の電磁場応答
  1.1.2 誘電率と透磁率
  1.1.3 負の屈折率と左手系物質
  1.1.4 なぜ自然界に負の屈折率はないのか
  1.1.5 メタマテリアルの歴史
 1.2 メタマテリアルの応用と作成方法
  1.2.1 スーパーレンズ
  1.2.2 光クローキング
  1.2.3 マイクロ波メタマテリアルの作成方法
  1.2.4 可視メタマテリアルの作成方法
2 メタマテリアルからメタサーフェスへ
 2.1 メタサーフェスの基礎と特徴的な光応答
  2.1.1 ナノホール配列と異常透過
  2.1.2 ナノスリットアレイの光透過
  2.1.3 ナノ粒子・ナノロッドの光応答
  2.1.4 プラズモニックナノアンテナ
  2.1.5 プラズモン共鳴とアンテナ共鳴はどう違うか
  2.1.6 電磁誘起透明化2.1.7 Mie 共振器
 2.2 メタサーフェスの設計・製作法
  2.2.1 電磁場シミュレーショ(FDTD,RCWA,COMSOL)
  2.2.2 リソグラフィとリフトオフ
  2.2.3 トップダウン加工法
  2.2.4 ボトムアップ加工法

3 メタサーフェスの応用
 3.1 メタサーフェス光学素子
  3.1.1 レンズ
  3.1.2 プラズモン収束レンズ
  3.1.3 偏光子と逆偏光透過
  3.1.4 光アイソレータ
  3.1.5 位相子・波長板
  3.1.6 ベクトルビーム生成
  3.1.7 ホログラフィ
  3.1.8 カーペットクローキング
  3.1.9 熱輻射制御
 3.2 可変メタサーフェス
  3.2.1 透過強度変調
  3.2.2 カラーフィルタ
  3.2.3 可変レンズ
  3.2.4 位相変調器
  3.2.5 キラリティ変調

4 まとめと今後の展望

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