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レジスト材料 |
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| 1.1 | 高分子集合体 |
| 1.1.1 | はじめに |
| 1.1.2 | 表面エネルギーとサイズ効果 |
| 1.1.3 | レジスト膜表面ミクロ構造 |
| 1.1.4 | 集合体の凝集モデル |
| 1.1.5 | 分散凝集解析 |
| 1.1.6 | サイズ依存性 |
| 1.1.7 | マニピュレーション |
| 1.1.8 | ナノ空孔 |
| 1.2 | 付着現象 |
| 1.2.1 | はじめに |
| 1.2.2 | 感光性樹脂 |
| 1.2.3 | 水溶液中での付着解析 |
| 1.2.4 | 水溶液中でのレジスト膜付着性 |
| 1.2.5 | 膨潤と溶解 |
| 1.2.6 | 大気中での付着解析 |
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| 1.2.7 | 大気中でのレジスト膜付着性 |
| 1.2.8 | レジスト膜の凝集性 |
| 1.2.9 | 表面処理と付着性 |
| 1.3 | 表面硬化層 |
| 1.3.1 | はじめに |
| 1.3.2 | クラック |
| 1.3.3 | ポッピング |
| 1.3.4 | 表面硬化層 |
| 1.3.5 | 環境応力亀裂（クレイズ） |
| 1.4 | 浸透と膨潤 |
| 1.4.1 | はじめに |
| 1.4.2 | 膜応力変動 |
| 1.4.3 | 残留溶媒量と付着性 |
| 1.4.4 | 浸透と電気伝導 |
| 1.4.5 | 膨潤と屈折率変動 |
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レジストプロセス |
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| 2.1 | レジストプロセス |
| 2.1.1 | はじめに |
| 2.1.2 | リソグラフィープロセス |
| 2.1.3 | 各種レジストプロセス |
| 2.1.4 | 感度曲線とコントラスト |
| 2.1.5 | スピンコート特性 |
| 2.2 | 密着強化処理（シランカップリング処理） |
| 2.2.1 | はじめに |
| 2.2.2 | 疎水化処理 |
| 2.2.3 | 最適化プロセス |
| 2.2.4 | 処理装置 |
| 2.2.5 | 密着性と付着性制御 |
| 2.3 | 多層レジストプロセス |
| 2.3.1 | はじめに |
| 2.3.2 | プロセスフロー |
| 2.3.3 | 3層レジストプロセス |
| 2.3.4 | Si含有2層レジストプロセス |
| 2.3.5 | DFR積層レジストプロセス |
| 2.4 | ウェットプロセス |
| 2.4.1 | はじめに |
| 2.4.2 | 接触角（Youngの式とDupreの式） |
| 2.4.3 | 液滴ピンニング |
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| 2.4.4 | 粗い表面の濡れ性（Wenzelの式） |
| 2.4.5 | 異種材質表面の濡れ性（Cassieの式） |
| 2.4.6 | 濡れ性の変化（Newmanの式） |
| 2.4.7 | ナノ液滴 |
| 2.5 | 乾燥プロセス |
| 2.5.1 | はじめに |
| 2.5.2 | レジスト膜の形成 |
| 2.5.3 | レジスト液の混合と溶解 |
| 2.5.4 | 乾燥によるエネルギー変化 |
| 2.5.5 | 溶剤拡散モデル |
| 2.5.6 | ラプラス力とレジスト膜の凝集 |
| 2.5.7 | 熱処理による膜硬化 |
| 2.5.8 | パターン間メニスカス |
| 2.6 | 乾燥方式 |
| 2.6.1 | はじめに |
| 2.6.2 | 乾燥装置 |
| 2.6.3 | 赤外線乾燥 |
| 2.6.4 | 減圧（真空）乾燥 |
| 2.6.5 | 凍結乾燥 |
| 2.6.6 | 超臨界乾燥 |
| 2.6.7 | スピン乾燥 |
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ナノスケール計測技術 |
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| 3.1 | 寸法計測 |
| 3.1.1 | はじめに |
| 3.1.2 | AFMによる寸法測定 |
| 3.1.3 | 高分子集合体の凝集制御 |
| 3.1.4 | LER （Line Edge Roughness） |
| 3.2 | DPAT法（付着力解析法） |
| 3.2.1 | はじめに |
| 3.2.2 | DPAT法 |
| 3.2.3 | 熱処理温度依存性 |
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| 3.2.4 | サイズ依存性 |
| 3.2.5 | パターン形状と剥離性 |
| 3.2.6 | 溶液中の付着性 |
| 3.2.7 | ヤング率測定 |
| 3.3 | 耐久性評価 |
| 3.3.1 | はじめに |
| 3.3.2 | 加速試験 |
| 3.3.3 | ワイブル分布 |
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レジスト付着性 |
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| 4.1 | 付着現象 |
| 4.1.1 | はじめに |
| 4.1.2 | 付着要因 |
| 4.1.3 | 実効付着面積 |
| 4.1.4 | 表面エネルギー成分 |
| 4.1.5 | 分散・極性成分測定 |
| 4.1.6 | 液体の拡張（拡張係数S ） |
| 4.1.7 | 3成分解析 |
| 4.2 | 応力集中効果 |
| 4.2.1 | はじめに |
| 4.2.2 | アンダーカット |
| 4.2.3 | 応力分布解析 |
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| 4.2.4 | 凹凸パターン |
| 4.2.5 | 開口パターン |
| 4.2.6 | ラインパターン |
| 4.2.7 | 表面硬化層 |
| 4.3 | 付着力推定 |
| 4.3.1 | はじめに |
| 4.3.2 | 原子間力顕微鏡（AFM） |
| 4.3.3 | フォースカーブ |
| 4.3.4 | 吸着力と表面自由エネルギー |
| 4.3.5 | 相互作用解析 |
| 4.3.6 | 付着強度の推定 |
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レジスト欠陥 |
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| 5.1 | プロセス欠陥 |
| 5.1.1 | はじめに |
| 5.1.2 | 表面硬化層 |
| 5.1.3 | 濡れ欠陥（ピンホール） |
| 5.1.4 | ポッピング現象 |
| 5.1.5 | 乾燥むら |
| 5.1.6 | 液滴ポッピング |
| 5.2 | VF（Viscous Finger）変形 |
| 5.2.1 | はじめに |
| 5.2.2 | ギャップ間のVF変形 |
| 5.2.3 | VF変形とレジスト接着性 |
| 5.2.4 | VF変形と応力集中 |
| 5.3 | ウォータマーク（乾燥痕） |
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| 5.3.1 | はじめに |
| 5.3.2 | 形成メカニズム |
| 5.4 | 発泡（ふくれ） |
| 5.4.1 | はじめに |
| 5.4.2 | ポッピング |
| 5.4.3 | 感光剤濃度依存性 |
| 5.5 | 微小気泡 |
| 5.5.1 | はじめに |
| 5.5.2 | 気泡捕獲パターン |
| 5.5.3 | 捕獲と脱離 |
| 5.5.4 | AFMによるナノ気泡制御 |
| 5.5.5 | マイクロバブルメモリ |
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| 参考文献 |
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