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| 不斉合成 |
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不斉酸化 |
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| 1.1 | 不斉エポキシ化反応 |
| 1.2 | 不斉ジヒドロキシ化反応 |
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| 1.3 | 不斉アミノヒドロキシ化反応 |
| 1.4 | スルフィドのスルホキシドへの不斉酸化 |
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不斉還元 |
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| 2.1 | 光学活性触媒を用いる不斉水素化反応 |
| 2.2 | 不斉ヒドロシリル化反応 |
| 2.3 | 光学活性金属水素化物によるカルボニル化合物の不斉還元 |
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| 2.4 | Meerwein-Pondorf-Verley(MPV)型不斉還元 |
| 2.5 | 酵素や微生物を用いる不斉還元 |
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不斉炭素−炭素結合合成 |
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| 3.1 | カルボニル基への不斉1,2-付加反応 |
| 3.2 | カルボニル等価体の不斉アルキル化 |
| 3.3 | アセタールへの不斉アルキル化 |
| 3.4 | 不斉アルドール反応 |
| 3.5 | 不斉共役付加反応 |
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| 3.6 | 不斉カップリング反応 |
| 3.7 | 不斉環化反応 |
| 3.8 | 不斉転位反応 |
| 3.9 | 不斉化学進化 |
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| ラジカル反応 |
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シラン、スタナンによる還元反応 |
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原子移動型ラジカル反応 |
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一酸化炭素を用いるラジカル反応 |
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| 6.1 | 一般的な実験操作とその注意 |
| 6.2 | 有機ハロゲン化物のホルミル反応 |
| 6.3 | オレフィンまたはオキシムエーテル共存系におけるケトンの合成 |
| 6.4 | アリルスズまたはスズエノラート共存系におけるケトンの合成 |
| 6.5 | フルオラススズ試薬によるラジカル・カルボニル化反応 |
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| 6.6 | 環状カルボニル化合物の合成 |
| 6.7 | 含カルボニル複素環の合成 |
| 6.8 | 酸化的条件でのカルボニル化反応 |
| 6.9 | 原子またはグループ移動を伴うカルボニル化反応 |
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カルコゲン元素を用いるラジカル反応 |
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| 7.1 | カルコゲン化合物を炭素ラジカル前駆体として利用する反応 |
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窒素ラジカル |
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| 8.1 | 窒素関連ラジカルの発生法 |
| 8.2 | アミニルラジカルを用いる含窒素複素環化合物の合成 |
| 8.3 | アミニウムラジカルを用いる含窒素複素環化合物の合成 |
| 8.4 | アミジルラジカルを用いる含窒素複素環化合物の合成 |
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| 8.5 | イミニルラジカルを用いる含窒素複素環化合物の合成 |
| 8.6 | 金属の電子移動によって発生させた窒素ラジカルの合成反応 |
| 8.7 | 窒素ラジカルを用いるその他の合成 |
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立体選択的ラジカル反応 |
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| 索引 |
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