マルチメディアにかかわる高分子材料-将来の夢-
1.はじめに
2.歴史的な概観
3.2010年での技術課題
4.情報伝達にかかわるデバイス(光源、伝送路等)
5.有機半導体レーザの可能性
5.1.有機半導体レーザの研究開発戦略
5.1.1.レーザ色素材料の検討
 
5.1.2.電極による消光の問題
5.1.3.導波路構造の設計
5.1.4.フォトニック結晶
6.情報処理にかかわるデバイス
7.情報記録にかかわるデバイス
8.情報表示にかかわるデバイス
 

 実装分野の技術動向と高分子材料への期待
1.はじめに
2.システムはどこへいくのか
3.複雑化の概略
3.1.複雑化の流れ
3.2.単純化のための基本的要素は何か
3.2.1.システムの基本について
3.2.2.複雑になる傾向の仕組み
3.2.3.単純なコンピュータとは
4.システム単純化の動き
4.1.インテル(株)の経緯
 
4.2.IBM社の経緯
4.3.速度ギャップの犯人
5.RAMBUSの出現
5.1.RAMBUSの採用
5.2.高速バスシステムの事例
6.材料内部への改善要求
6.1.電流の表皮効果
6.2.誘電率とは何か
6.3.期待される有機絶縁層配線構造
7.おわりに
 

 超解像レジストの研究開発動向
1.はじめに
2.レジスト/リソグラフィ/半導体微細加工
2.1.半導体市場の現状と動向
2.2.ロードマップ
2.3.レジストの現状と動向
2.4.フォトリソグラフィと光吸収
2.5.レジストの要求性能
2.6.レジスト方式の変遷
2.7.フォトレジスト市場の動向
3.次世代量産リソグラフィ(ArFエキシマレーザ)用レジスト
3.1.ポジ型レジスト(極性脂環構造)
3.1.1.レジスト材料の開発経緯
 
3.1.2.機能分離型ポリマー
3.1.3.機能集積型ポリマー
3.1.4.機能集積型ポリマーの特性
3.2.ネガ型レジスト(脂環ラクトン構造)
3.2.1.メモリーLSI(記憶回路)からロジックLSI(論理回路)への移行
3.2.2.回路パターンの相違
3.3.感光剤(β−オキソアルキル構造)
3.3.1.開発経緯
3.3.2.ALS、NEALSの特徴
4.次々世代の量産リソグラフィについて
4.1.ポストArFの露光技術の現状と問題点
4.2.今後の課題
 

 プラスチック光ファイバの最近の話題
1.はじめに
2.POFの種類と構造
3.PMMA系POF
4.ファイバ内の屈折率分布形成
 
5.伝搬モード解析
6.全フッ素化ポリマー系GI型POF
7.おわりに
 

 ポリマー光導波路とのキャッチボール
1.はじめに
2.ポリマー光導波路の特徴
2.1.ポリマー光導波路
2.2.石英系ガラス光導波路の特徴
2.3.ポリマー導波路の特徴
3.ポリマー導波路の研究動向
3.1.ポリマー導波路材料
 
3.2.ポリマー光導波路の作製方法
4.ポリマー光導波路の応用
4.1.ポリマー光導波路の応用
4.2.光インタコネクション
4.3.ポリマー導波路適用の条件
5.まとめ
 

 液晶表示装置を支える高分子材料
1.はじめに
2.液晶ディスプレイの構造
2.1.反射型を透過型
2.2.LCD用光学フィルムの要素技術
3.LCDに要求される特性と光学フィルム
4.高透過偏光フィルムについて
4.1.ヨウ素系偏光フィルムの構造
4.2.偏光フィルムの偏光性向上
4.3.偏光フィルムの透過率
5.視認性向上のための光学フィルム
5.1.輝度向上フィルム
5.2.表面反射防止フィルム
6.LCDの視野角改良のための光学フィルム
6.1.位相差フィルムに要求される特性と因子
6.2.位相差フィルムの種類・機能・適用機種
 
6.3.LCDの位相差フィルムによる視野角改良
6.4.IPS方式とVA方式
6.5.光制御板(ルミスティー)
6.5.1.ルミスティーによる視角拡大原理
6.5.2.ルミスティーによるTFT中間表示の改良
7.LCDの適用範囲拡大のための光学フィルム
7.1.高耐久染料系偏光フィルム
7.2.温度補償型位相差フィルム
7.3.高精細高輝度反射型LCD用材料
7.3.1.反射型LCD用高機能材料
7.3.2.カラー反射型LCDの構成
7.3.3.反射型LCD用1/4λ板と前方散乱部材
7.3.4.反射防止機構
8.光学フィルムを支える材料への要求特性
9.今後の光学フィルムの主課題
 
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