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第1編 オゾンおよびOHラジカル類の特性と生成法 |
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オゾン |
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第1節 オゾンとは |
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第2節 生成法 |
1. | はじめに―無声放電 |
2. | 無声放電とは |
3. | 放電場でのオゾン生成 |
4. | 酸素原料オゾン生成の特性 |
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5. | 短空隙長酸素原料オゾン発生の特性 |
6. | 空気原料オゾン生成の特性 |
7. | 酸素原料と空気原料の比較 |
8. | 商用オゾン発生器 |
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第3節 水電解によるオゾンの生成 |
1. | はじめに |
2. | 電解法オゾン発生装置の概要 |
3. | 電解オゾンの特徴 |
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第4節 物理および化学的性質 |
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第5節 生体影響 |
1. | 動物に対するオゾンの影響 |
2. | ヒトに対する空気中オゾンの影響 |
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3. | オゾンによる生理学的影響と健康保護のための限界濃度 |
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OHラジカルおよびその近縁種 |
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第1節 ラジカルとは |
1. | はじめに |
2. | 電子のスピン |
3. | 原子、分子の電子 |
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4. | パウリの排他律 |
5. | フントの原理 |
6. | 電子配置 |
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第2節 OHラジカル類の種類 |
1. | はじめに |
2. | 酸素原子(O) |
3. | 酸素分子(O2) |
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4. | ヒドロキシルラジカル(OH/O-) |
5. | ヒドロペルオキシルラジカル/スーパーオキシドアニオン(HO2/O2-) |
6. | ヒドロトリオキシルラジカル/オゾニドイオンラジカル(HO3/O3-) |
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第3節 OHラジカル反応の類型 |
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第4節 生成法 |
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1 オゾンからの生成 |
1. | 気相オゾンの熱分解による酸素原子生成 |
2. | 気相オゾンの紫外光分解による酸素原子生成 |
3. | オゾン/水の紫外光分解によるOHラジカルの生成 |
4. | 水中オゾンの自己分解 |
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5. | オゾンと過酸化水素の反応によるOHラジカル生成 |
6. | オゾン/触媒によるOHラジカル生成 |
7. | オゾンと有機化合物の反応 |
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2 オゾン以外からのOHラジカル生成 |
1. | 過酸化水素の紫外線分解によるOHラジカル生成 |
2. | フェントン(Fenton)反応 |
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3 放電によるOHラジカルの生成と計測 |
1. | はじめに |
2. | DCストリーマコロナによるOHラジカルの生成と計測 |
3. | 水中でのOHラジカルの生成 |
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4. | LIF法の原理 |
5. | OHラジカルのエネルギー準位ダイアグラム |
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4 電気分解からの生成 |
1. | はじめに |
2. | OHラジカル類の生成にかかわる電極反応 |
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5 超音波からの生成 |
1. | はじめに |
2. | 超音波 |
3. | 超音波によるラジカル反応 |
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6 放射線からの生成 |
1. | はじめに |
2. | 放射線と物質との相互作用 |
3. | 放射線の単位 |
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4. | 放射線によるOHラジカルの生成 |
5. | 低エネルギー加速器について |
6. | おわりに |
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7 マイクロバブルからの生成 |
1. | はじめに |
2. | マイクロバブルの定義と発生方法 |
3. | マイクロバブルの帯電性 |
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4. | マイクロバブルの消滅に伴うフリーラジカルの生成 |
5. | おわりに |
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8 ポリアニリンを用いた生成―ポリアニリンを用いる活性酸素の連続発生とその応用― |
1. | ポリアニリンと酸素との反応 |
2. | 活性酸素連続発生装置の試作とキャラクタリゼーション |
3. | 水系での応用例 |
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第5節 いくつかのOHラジカル生成法によるモデル有機化合物との反応 |
1. | オゾン/過酸化水素処理 |
2. | オゾン/紫外線照射 |
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第6節 測定法―電子スピン共鳴法(プローブ法)― |
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第2編 反応モデルとシミュレーション |
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オゾンとOHラジカルの関係 |
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オゾンとOHラジカルの関係 |
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第3編 OHラジカル類の応用技術 |
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水 |
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第1節 浄水 |
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第2節 排水 |
1. | COD、TOCの除去 |
2. | 内分泌撹乱化学物質の除去 |
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第3節 廃棄物埋め立て地浸出水中のダイオキシン類の分解―オゾン/紫外線法― |
1. | はじめに |
2. | 促進酸化処理法によるダイオキシン類分解特性 |
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第4節 放電によるOHラジカルの発生と排水中医薬品の処理技術 |
1. | はじめに |
2. | 放電によるOHラジカルの生成と溶存有機物の浄化処理原理 |
3. | 難分解性有機物分解実験 |
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第5節 電気分解による排水処理 |
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第6節 オゾンマイクロバブルによる水質浄化 |
1. | はじめに |
2. | マイクロバブルを利用した天然湖水の浄化実験 |
3. | オゾンマイクロバブルを利用した排水処理技術 |
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4. | 水を汚さない半導体の製造工程の実現 |
5. | おわりに |
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第7節 二酸化チタン/超音波触媒法による水質浄化―レジオネラ、内分泌撹乱化学物質、農薬― |
1. | はじめに |
2. | 二酸化チタンへの超音波照射とOHラジカルの生成 |
3. | OHラジカルによる有害物質の分解 |
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4. | 二酸化チタン/超音波触媒法による殺菌評価 |
5. | おわりに |
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大気 |
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第1節 オゾンによる飲食店・食品工場の調理排気脱臭技術 ―「水ミストとオゾン」を使った脱臭システムによる調理排気脱臭事例― |
1. | はじめに |
2. | 悪臭防止法とは |
3. | 調理排気脱臭の特徴 |
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4. | ハイキクリーン脱臭装置の概要 |
5. | 三点比較式臭袋法による脱臭効果事例 |
6. | おわりに |
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第2節 ビル取り入れ外気中の調理臭とオキシダントの除去 |
1. | はじめに |
2. | 技術の背景 |
3. | 技術の概要 |
4. | 事前の確認と調査 |
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5. | 脱臭装置の設計 |
6. | 運転実績事例の紹介 |
7. | おわりに |
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第3節 酸素ラジカル吸蔵物質による空気浄化 ―ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、プロピレン、PM― |
1. | はじめに |
2. | ナノ細孔アルミノシリケートの合成法 |
3. | ナノ細孔アルミノシリケートの構造とラマン分光スペクトル |
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4. | ナノ細孔アルミノシリケートの触媒機能 |
5. | 酸素ラジカルの消失と再生 |
6. | まとめ |
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第4節 光触媒/超音波法による空気浄化―有機汚染ガスの除去― |
1. | はじめに |
2. | 光触媒/超音波法の浄化技術への応用 |
3. | 光触媒/超音波法を用いた空気浄化技術 |
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4. | 液相系での有機物分解に対する光触媒/超音波法の効果 |
5. | おわりに |
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第5節 Fe(III)酸化鉄によるOHラジカルの生成と環境中有機物の処理技術―VOCを中心に― |
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廃棄物 |
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第1節 プラズマ活性種による廃プラスチックの表面洗浄 |
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第2節 超臨界水による廃プラスチックのケミカルリサイクル |
1. | はじめに |
2. | 超臨界水の特性 |
3. | 超臨界水の工業的利用への期待 |
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食品 |
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第1節 工場・施設におけるオゾン水の利用 |
1. | はじめに |
2. | 電解方式の技術 |
3. | カット野菜工場での利用 |
4. | 米飯工場での利用 |
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5. | 水産加工工場での利用 |
6. | 設備・床洗浄での利用 |
7. | 飲料工場での利用 |
8. | まとめ |
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第2節 オゾン水によるカット野菜の微生物制御 |
1. | はじめに |
2. | 電解オゾン水の生成原理と特徴 |
3. | オゾン水、酸性電解水によるカット野菜の殺菌効果 |
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4. | 殺菌処理後の品質変化 |
5. | オゾン水の発展的利用方法可能性 |
6. | おわりに |
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第3節 オゾン氷による生鮮食品鮮度保持 |
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医療・医薬品 |
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第1節 オゾン療法の特徴とその効果 |
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3. | オゾン療法はどのようにして効くか |
4. | オゾン療法には副作用があるのか |
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第2節 オゾンによる医薬品製造用クリーンルームの無菌管理システム |
1. | はじめに |
2. | オゾン殺菌の特徴 |
3. | ホルマリン代替薬剤の比較 |
4. | オゾンの殺菌検証と必要オゾン濃度の設定 |
5. | システム概要 |
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6. | 装置類 |
7. | 運転中のオゾン濃度データ |
8. | クリーンルーム内の殺菌効果 |
9. | 使用材料の検討 |
10. | おわりに |
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第3節 放電プラズマによる医療器材の滅菌 |
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第4節 医療現場におけるオゾン水の利用 |
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材料 |
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第1節 プラズマ活性種による超機能表面創製技術 |
1. | はじめに |
2. | プラズマと分類 |
3. | プラズマ装置 |
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4. | 酸素プラズマ活性種および反応性 |
5. | 酸素プラズマ活性種の超機能表面創製への応用 |
6. | おわりに |
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第2節 超音波によるOHラジカルの生成を利用した多価フェノールの合成 |
1. | はじめに |
2. | ニトロフェノール類のヒドロキシル化合成 |
3. | フェノール類のヒドロキシル化 |
4. | OHラジカルの発生による蛍光物質の合成 |
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5. | サリチル酸からジヒドロキシ安息香酸の合成 |
6. | ジベンゾチオフェンからのヒドロキシル化合物の合成 |
7. | おわりに |
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第3節 活性酸素による高分子材料の表面エッチング技術 |
1. | はじめに |
2. | オゾンと紫外線による活性酸素連続発生装置 |
3. | 活性酸素による芳香族化合物の分解 |
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4. | 活性酸素による高分子材料の表面制御 |
5. | 活性酸素による高分子膜の表面改質 |
6. | 活性酸素による高分子膜のエッチング |
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その他 |
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第1節 オゾン水による半導体プロセスの洗浄技術 |
1. | はじめに |
2. | オゾン水中に生成するラジカル活性種の評価 |
3. | オゾン水中のラジカル活性種の生成に与えるpHの影響 |
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4. | 溶存オゾンの減少に影響を及ぼす要因 |
5. | オゾン水利用の動向 |
6. | おわりに |
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第2節 オゾン水によるバイオフィルムの殺菌・除去 |
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3. | バイオフィルムモデルを用いたオゾン水による殺菌除去効果の検討 |
4. | まとめ |
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第3節 間欠オゾン接触による付着生物障害防止 |
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第4節 オゾンガスを利用した土壌消毒技術 |
1. | はじめに |
2. | オゾンガスの土壌病原微生物に対する殺菌殺虫効果 |
3. | 土壌中におけるオゾンガスの動態 |
4. | 土壌へのオゾン処理法 |
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5. | オゾンガス処理が土壌化学性に与える影響 |
6. | オゾンガスの土壌病原微生物に対する処理方法 |
7. | 今後の課題 |
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第5節 洗濯機能向上のためのオゾンガス利用 |
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4. | まとめ |
5. | 今後のオゾン利用の展開―水浄化装置への展開― |
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第4編 OHラジカル類の技術展望 |
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1. | はじめに |
2. | 歴史的な流れ |
3. | ラジカル反応の特徴 |
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