● デバイスの高性能化に不可欠な高品質な半導体材料を得るための「結晶成長技術」を紹介 ● 次世代の各種ポストシリコン半導体を材料別に詳述 ● 斯界一流の執筆陣による最新の知見を掲載 　 2013年6月 本体44,000円＋税 556頁 B5 ISBN 978-4-86469-059-1 　 執筆者　計57名 　 結晶性半導体ナノ薄膜の成膜と電子物性に関する物質科学 ポストシリコン半導体ナノ薄膜結晶成長と構造電子物性制御 結晶成長・成膜法 評価・解析 結　び 〜次世代半導体が拓くエレクトロニクス展望〜 　 ポストシリコン半導体　〜ナノ成膜ダイナミクスと基板･界面効果〜 Copyright　(C) 2013　NTS Inc. All right reserved.