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| 序文 |
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フォトニック結晶としての液晶とデバイス |
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| 1 | はじめに |
| 1.1 | フォトニック効果とは |
| 2 | コレステリック液晶からのレージング |
| 2.1 | 分布帰還型レーザー |
| 2.2 | 異方的欠陥層によるレージング |
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| 2.3 | しきい値を下げるための試み |
| 3 | コレステリック液晶を用いた光ダイオード |
| 3.1 | 原理、シミュレーション、実験 |
| 3.2 | 光ダイオードへの期待 |
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構造色の世界 生物が作るナノ構造 |
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| 1 | 構造色とは |
| 1.1 | 薄膜干渉 |
| 1.2 | 多層膜干渉 |
| 1.3 | 散乱 |
| 1.4 | フォトニック結晶 |
| 2 | モルフォチョウ |
| 2.1 | モルフォチョウとは |
| 2.2 | モルフォチョウはなぜ青く光るか |
| 2.3 | モルフォチョウの翅の構造 |
| 2.4 | 回折格子を手がかりに |
| 2.5 | モデルによる確認 |
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| 2.6 | まだ残る疑問点 |
| 2.7 | モルフォチョウの構造色のまとめ |
| 3 | モルフォチョウの構造色を再現する |
| 3.1 | モルフォチョウの構造モデル |
| 4 | 自然界の構造色 |
| 4.1 | 多層膜干渉 |
| 4.2 | フォトニック結晶 |
| 4.3 | 制御された散乱を用いた構造色 |
| 4.4 | 白、黒を際立たせる構造 |
| 4.5 | 回折格子の構造色 |
| 5 | ツヤ、質感の再現 |
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ホログラフィック記録再生技術 |
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| 1 | はじめに |
| 2 | 次世代光ディスクとしてのホログラフィックストレージ |
| 3 | ホログラフィックストレージを実現するコリニアテクノロジー |
| 3.1 | コリニアホログラフィーの記録方式 |
| 3.2 | 記録・再生のシークエンス |
| 3.3 | サーボ光としての赤色光 |
| 3.4 | 大容量化 |
| 3.5 | コリニアホログラフィックドライブの光学系 |
| 3.6 | 標準化に向けて |
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| 4 | コリニアホログラムに要求される材料 |
| 4.1 | ホログラフィック記録材料 |
| 4.2 | フォトポリマーに要求される性能 |
| 4.3 | 評価機器とその実例 |
| 4.4 | 光反応による材料の収縮 |
| 4.5 | 記録特性の温度依存性 |
| 4.6 | コリニア方式記録再生試験機を用いた材料評価 |
| 4.7 | 材料の寿命と安全性 |
| 4.8 | コリニア方式ホログラフィックストレージシステム側から見た材料への要求特性 |
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重合性液晶と光配向膜 |
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| 1 | はじめに |
| 1.1 | LCDの市場動向 |
| 1.2 | LCD高性能化のための液晶―高分子複合体 |
| 2 | 重合性液晶とは |
| 2.1 | 重合性液晶の特徴 |
| 2.2 | 重合性液晶の主要用途 |
| 3 | 重合性液晶の作製方法 |
| 3.1 | フィルムの作製 |
| 3.2 | 液晶の配列制御 |
| 3.3 | ねじれの制御 |
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| 3.4 | 垂直制御、傾きの制御 |
| 3.5 | 硬化温度による位相差の制御 |
| 3.6 | 2段階照射による位相差の制御 |
| 3.7 | 温度依存性を持つ位相差フィルム |
| 3.8 | インセルリターダーへの応用 |
| 4 | アゾ染料系光配向膜材料 |
| 4.1 | アゾ染料SDI |
| 4.2 | 重合性アゾ染料 |
| 4.3 | 特徴 |
| 4.4 | 今後の課題 |
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高屈折率熱硬化性樹脂 |
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| 1 | はじめに 高屈折率、高アッベ数の必要性 |
| 1.1 | 屈折率について |
| 1.2 | アッベ数 |
| 1.3 | 屈折率とアッベ数との関係 |
| 2 | プラスチックの分子構造からの屈折率、アッベ数の推算 |
| 2.1 | 屈折率の推算 |
| 2.2 | 分子構造からのアッベ数の推算 |
| 3 | プラスチックレンズの高屈折率化の手法 |
| 4 | 眼鏡用プラスチックレンズの高屈折率、高アッベ数化の歴史 |
| 4.1 | 初の眼鏡用プラスチックレンズ材料 |
| 4.2 | 高屈折率材料（1） |
| 4.3 | 高アッベ数材料（1） |
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| 4.4 | 高アッベ数材料（2） |
| 4.5 | 高屈折率材料（2） |
| 5 | 近年のレンズの高屈折率化 |
| 5.1 | ポリマー設計からの考察 |
| 5.2 | モノマーからの考察 |
| 5.3 | 材料設計 |
| 5.4 | 開発材料の物性、特徴 |
| 6 | プラスチックレンズの市場 |
| 7 | 今後の樹脂の高屈折率化の動向 |
| 7.1 | 芳香環導入 |
| 7.2 | 硫黄の高含有率化 |
| 7.3 | 金属や半金属原子の導入 |
| 7.4 | 今後の展開 |
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最新フォトポリマー設計技術 |
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| 1 | はじめに |
| 2 | 半導体用フォトレジスト |
| 2.1 | KrFレジスト |
| 2.2 | ArFレジスト |
| 2.2.1 | ArFレジストの課題 |
| 2.2.2 | ネガ型レジスト |
| 2.2.3 | ラフネスを減らすために |
| 2.3 | 液浸リソグラフィー |
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| 2.4 | EB、EUVレジスト材料 |
| 2.5 | 分子レジスト |
| 2.6 | 光酸発生剤 |
| 3 | 光架橋、硬化樹脂 |
| 3.1 | 環境対応型光重合開始剤 |
| 3.2 | 酸素阻害を受けない硬化系 |
| 3.3 | 高機能と環境調和を図った再溶解型光架橋・硬化樹脂 |
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まとめ |
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