素子性能を左右する「誘電体」開発の最前線！ ● 半導体素子の微細化に伴う諸問題を解決する「絶縁膜」にクローズアップ。 ● 技術・科学的課題、高誘電材料・低誘電材料の研究開発などを丁寧に詳解。 　 2012年7月20日 本体38,000円＋税 356頁 B5 ISBN978-4-86469-039-3 　 執筆者　計４１名 エレクトロニクスにおけるスケーリングの追求と絶縁膜の技術・科学的課題 絶縁超薄膜技術 〜分子設計・加工・評価〜 ポストシリコン・トランジスタとゲート絶縁膜 層間絶縁膜 絶縁膜形成とエッチング ナノエレクトロニクスと絶縁膜技術展望 　 ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術　〜成膜技術と膜・界面の物性科学〜 Copyright　(C) 2012　NTS Inc. All right reserved.