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EUVリソグラフィ技術
〜レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状〜 |
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★次世代半導体露光技術と目されるEUVリソグラフィに
特化した、当分野に参画するうえで必読の入門書！
★EUVリソグラフィの概要・微細化の変遷にはじまり、
レジスト材料・光源・露光装置技術およびマスクや
ぺリクルなどの各種構成の概要や技術的変遷について
網羅的に解説！
★Beyond EUVLの展望や、日本の半導体技術復活に向けて
目指すべき半導体業界の将来像についても、第一人者が
解説！
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| 発刊日 |
2023年5月23日 |
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| 定 価 |
本体40,000円＋税 |
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| 頁 数 |
194頁 |
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| 造 本 |
B5 |
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| 発行所 |
AndTech |
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| ISBN |
978-4-909118-56-1 |
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監修 渡邊 健夫（兵庫県立大学）
■章タイトル
第1章 EUVリソグラフィの概要
〜EUVリソグラフィ用材料・技術の進化と半導体業界の変遷〜
第2章 EUVリソグラフィ・レジスト材料
第3章 EUVレジストの透過率測定法
第4章 EUVリソグラフィと光源開発・露光装置および検査装置
第5章 EUVリソグラフィとフォトマスク・ペリクル
第6章 EUVリソグラフィ技術のまとめ、並びにBeyond EUVLの展望
〜目指すべき半導体業界の将来像〜
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EUVリソグラフィ技術
〜レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状〜 |
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