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| 第1部 真空系の基礎設計 |
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真空排気系の基礎設計 |
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| 1. | 高真空排気ポンプの選択 |
| 1.1. | 油拡散ポンプ(DP)が適合する場合 |
| 1.2. | ターボ分子ポンプ(TMP)が適合する場合 |
| 2. | 高真空排気ポンプの排気速度の決定 |
| 2.1. | 体積排気特性 |
| 2.2. | 定常排気特性(表面排気) |
| 3. | 粗引きポンプの排気速度の決定 |
| 3.1. | 体積排気特性 |
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| 4. | 補助排気ポンプの排気速度の決定 |
| 4.1. | 過大ガス負荷領域を
すみやかに通過させるために |
| 4.2. | 空間ガス負荷対策 |
| 4.3. | クロスオーバーにおけるガス放出負荷対策 |
| 4.4. | 油拡散ポンプ(DP)排気系の制御 |
| 4.5. | ターボ分子ポンプ(TMP)排気系の制御 |
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真空ポンプ |
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| 1. | 油回転ポンプ(RP)とルーツポンプ |
| 1.1. | 翼型油回転ポンプ |
| 1.2. | ルーツポンプ
(別名：メカニカルブースターポンプ) |
| 2. | ドライポンプ |
| 3. | 油拡散ポンプ(DP) |
| 3.1. | 油蒸気の逆流特性 |
| 3.2. | ポンプの作動油 |
| 4. | ターボ分子ポンプ(TMP) |
| 4.1. | ターボ分子ポンプ(TMP)の排気系 |
| 4.2. | TMP排気系の運転 |
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| 5. | スパッタイオンポンプ(SIP) |
| 5.1. | 排気のメカニズム |
| 5.2. | 放電強度 |
| 5.3. | 不活性ガスの排気 |
| 6. | チタンサブリメーションポンプ(TSP) |
| 7. | 非蒸発ゲッターポンプ(NEG) |
| 8. | クライオポンプ(CP) |
| 8.1. | 排気特性 |
| 8.2. | 排気系 |
| 8.3. | 排気系の設計上の注意 |
| 8.4. | 再生作業と保守 |
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圧力測定 |
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| 1. | 真空計 |
| 1.1. | 機械的真空計 |
| 1.2. | 熱伝導真空計 |
| 1.3. | 電離真空計 |
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| 2. | 残留ガス分析計 |
| 2.1. | 磁場セクター型ガスアナライザー |
| 2.2. | 4重極子マスフィルター |
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洗浄 |
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| 1. | 洗浄工程 |
| 1.1. | 洗浄の種類と工程 |
| 1.2. | 各種材料の洗浄工程 |
| 1.3. | 結論 |
| 2. | 有機溶剤による洗浄 |
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| 2.1. | 溶剤の物性 |
| 2.2. | 有機溶剤の引火性と毒性 |
| 2.3. | 水系洗浄溶液による洗浄 |
| 3. | プラズマ洗浄 |
| 4. | 洗浄に関する論文 |
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リークテスト |
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| 1. | ヘリウム漏れ試験方法 |
| 1.1. | 分析管の動作原理 |
| 1.2. | 試験装置 |
| 1.3. | 真空吹き付け法(スプレー法) |
| 1.4. | 真空外覆法(真空フード法) |
| 1.5. | 真空積分法 |
| 1.6. | 吸い込み法(スニッファー法) |
| 1.7. | 加圧積分法 |
| 1.8. | 吸盤法(サクションカップ法) |
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| 1.9. | 真空容器法(ベルジャー法) |
| 1.10. | 浸漬法(ボンビング法) |
| 2. | その他のリークテスト |
| 2.1. | ヘリウムリークディテクターが
利用できる場合 |
| 2.2. | 残留ガス分析計(マスフィルターなど)が
利用できる場合 |
| 2.3. | 電離真空計が備わっている場合 |
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構成材料のガス放出 |
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| 1. | ガス放出のプロセス |
| 1.1. | 熱励起ガス放出 |
| 1.2. | 電子励起脱離(ESD) |
| 2. | ガス放出速度の測定方法 |
| 2.1. | 差動的圧力上昇法 |
| 2.2. | 可変コンダクタンス法 |
| 2.3. | 新しい3点圧力法 |
| 2.4. | 新しい2点圧力法 |
| 2.5. | 1点圧力法 |
| 2.6. | コンダクタンス変調法(CM法) |
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| 2.7. | 流路切り替え法 |
| 2.8. | 各種測定方法の比較 |
| 3. | ガス放出速度のデータ |
| 3.1. | 熱励起ガス放出 |
| 3.2. | 電子励起脱離(ESD) |
| 4. | 超高真空用金属材料の表面処理 |
| 4.1. | ステンレス鋼 |
| 4.2. | アルミニウム合金 |
| 4.3. | 銅と銅合金 |
| 4.4. | チタン |
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圧力シミュレーション |
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| 1. | 真空回路の基礎 |
| 1.1. | 従来の圧力解析 |
| 1.2. | 真空ポンプの排気機能 |
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| 1.3. | チャンバー壁のガス放出機能 |
| 1.4. | 真空回路 |
| 2. | ガスフローによる空間圧力分布 |
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| 第2部 マイクロ・ナノ電子ビーム装置の真空システム技術 |
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電子顕微鏡の真空排気系 |
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| 1. | 電子顕微鏡の真空的特徴 |
| 1.1. | 透過型電子顕微鏡(TEM)の
鏡体各部の構造と材料 |
| 1.2. | 鏡体各部の機能と真空 |
| 2. | 電子顕微鏡の油拡散ポンプ排気系 |
| 2.1. | 透過型電子顕微鏡(TEM)のDP排気系 |
| 2.2. | 走査型電子顕微鏡(SEM)のDP排気系 |
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| 3. | 電子顕微鏡と表面分析装置の超高真空系 |
| 3.1. | 透過型電子顕微鏡(TEM)の超高真空系 |
| 3.2. | 表面分析装置の超高真空系 |
| 3.3. | 構成材料の表面処理 |
| 3.4. | 真空装置内のほこり
(パーティクルコンタミネーション)対策 |
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電子顕微鏡における各部圧力のシミュレーション |
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| 1. | 真空回路の設計 |
| 2. | 抵抗回路網シミュレータによる圧力解析 |
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| 3. | コンピュータによるマトリックス解析 |
| 4. | 真空回路による高真空系の解析事例 |
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微細電子ビーム照射によって誘起される試料汚染 |
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| 1. | 炭化水素ガス分子の輸送 |
| 1.1. | Ennosの実験 |
| 1.2. | Christyの解析 |
| 1.3. | Wallの解析 |
| 1.4. | Yoshimura et al.の実験 |
| 2. | 二次電子像(SEI)の暗化 |
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| 2.1. | Gressus et al.の実験 |
| 2.2. | Yoshimura et al.の実験 |
| 3. | カーボン試料のエッチング現象 |
| 3.1. | Heideの実験 |
| 3.2. | ノウハウ技術 |
| 4. | 汚染となる材料 |
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真空中での放電 |
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| 1. | インシュレータ沿面放電 |
| 1.1. | 放電に関わる因子 |
| 1.2. | インシュレータの表面の帯電 |
| 1.3. | 沿面放電のメカニズム |
| 1.4. | インシュレータの表面性状 |
| 1.5. | カソード側のインシュレータ・
電極接合部(トリプルジャンクション)の形状 |
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| 1.6. | SF6ガス中での沿面放電 |
| 2. | 電極ギャップ放電 |
| 2.1. | アノード開始説 |
| 2.2. | イオン交換現象と全電圧効果 |
| 2.3. | 電極表面上のウィスカー |
| 2.4. | 電極表面のガス分子 |
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微細電子ビームエミッタ |
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| 1. | タングステン(W)-FEエミッタ |
| 1.1. | Crewe et al.のFE電子線源をもつ電子銃の研究 |
| 1.2. | エミッション特性とエミッションノイズ |
| 1.3. | リモルディング処理とビルドアップ処理 |
| 2. | ZrO/Wエミッタ |
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| 2.1. | ZrO/Wエミッタのエミッション特性 |
| 3. | ランタンヘキサボライド(LaB6)エミッタ |
| 3.1. | Laffertyのホウ化物の熱電子放出特性の研究 |
| 4. | その他の電子線源 |
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| 第3部 真空技術の基礎の諸式とJIS資料 |
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| 1. | 真空技術用語 |
| 1.1. | 真空技術一般用語 |
| 1.2. | 圧力の単位 |
| 1.3. | 真空ポンプ関連用語 |
| 1.4. | 真空計および関連用語 |
| 2. | 真空装置用図記号 |
| 2.1. | 真空ポンプと関連部品 |
| 2.2. | 真空フランジ・排気管・弁などの図記号 |
| 2.3. | 真空ゲージの図記号 |
| 3. | 真空装置用フランジ |
| 3.1. | 真空装置用フランジ |
| 3.2. | 真空装置用クランプ形継手 |
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| 3.3. | 真空装置用ベーカブルフランジ |
| 4. | 気体分子の運動 |
| 4.1. | 蒸気圧 |
| 4.2. | 入射頻度 |
| 4.3. | 平均自由行程 |
| 4.4. | コンダクタンス |
| 4.5. | 排気特性 |
| 4.6. | 吸着 |
| 4.7. | 脱離 |
| 4.8. | 拡散 |
| 4.9. | 表面排気 |
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