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レジスト材料の基礎とプロセス最適化 冊子+CDセット |
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<本書の特徴>
◇ 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせない
レジスト材料!
◇ フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理
装置までを幅広く網羅!
◇ デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎および
ノウハウの習得を目指す!
◇ パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に
必須な技術まで詳述!
◇ フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化
といった課題の解決を支える!
◇ フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約
した機能的な一冊!
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発刊日 |
2021年11月12日 |
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定 価 |
本体90,000円+税 |
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頁 数 |
193頁+CD |
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造 本 |
A4 |
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発行所 |
CMCリサーチ |
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■著者 河合 晃
■章タイトル
第1章 レジスト材料
第2章 レジストプロセス
第3章 ナノスケール計測技術
第4章 レジスト付着性
第5章 レジスト欠陥
付録 Q&A
索引
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レジスト材料の基礎とプロセス最適化 冊子+CDセット |
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