レジスト材料の基礎とプロセス最適化 
 
新刊 応用物理 試読不可
<本書の特徴>
◇ 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせない
  レジスト材料!
◇ フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理
  装置までを幅広く網羅!
◇ デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎および
  ノウハウの習得を目指す!
◇ パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に
  必須な技術まで詳述!
◇ フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化
  といった課題の解決を支える!
◇ フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約
  した機能的な一冊!
 
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発刊日 2021年11月12日
定 価 本体80,000円+税
頁 数 193頁
造 本 A4
発行所 CMCリサーチ
ISBN 978-4-910581-10-1
 
■著者 河合 晃


■章タイトル

第1章 レジスト材料 
第2章 レジストプロセス 
第3章 ナノスケール計測技術 
第4章 レジスト付着性 
第5章 レジスト欠陥 
付録  Q&A 
索引

 
 
 
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