高分子学会主催｢ポリマーフロンティア21　微細加工技術の将来展望｣セミナー（2002年4月）を編集。 サブミクロン程度までの微細加工技術を解説。対象を高分子材料に限定せず、ナノテクノロジーへの展開までを示す。 　 2002年9月30日 本体24,000円＋税 208頁 B5判　上製 ISBN4-86043-006-9 (社)高分子学会編 　 近接場光学を用いた ナノフォトニクスとそのための微細加工 　 マイクロリキッドプロセスを用いた デバイス創成と将来展望 大津　元一　　東京工業大学 下田　達也　　セイコーエプソン(株) 　 フェムト秒レーザーによる 超微細光造形法 　 連続型EUVリソグラフィ開発と 樹脂感光性評価 河田　聡　　大阪大学 東　博純　　(株)豊田中央研究所 　 自己組織化的手法による 微細加工の将来展望 　 新しい露光方法に対応した レジスト材料の開発 益子　信郎　　(独)通信総合研究所 緒方　寿幸　　東京応化工業(株) 　 Copyright　(C) 2003　NTS Inc. All right reserved.