レジスト材料の基礎とプロセス最適化

河合 晃

著者紹介
 国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 電気電子情報工学専攻 教授
 ナノ・マイクロシステム工学研究室(河合研究室)
 研究成果実用化企業(大学ベンチャー企業):アドヒージョン 代表取締役 兼務
【研究歴】
 三菱電機株式会社 ULSI 研究所
 長岡技術科学大学 電気電子情報工学専攻 教授
 ・ リソグラフィー技術および設計
 ・ コーティング、乾燥技術、薄膜形成、薄膜評価
 ・ 表面、界面、付着、濡れ、剥離、クリーンネス・レジスト材料開発(g,i,excimer・・・、CELL、
   Si 含有、液浸)
 ・ 現像液開発(界面活性剤、溶解特性)
 ・ プロセス開発(3層、2層レジスト法、イメージリバーサル、位相シフト重ね合せ、輪帯照明、
   アライメント、スピンコート、スプレーコート、DUVキュア、パターン欠陥・・・)
 ・ 装置開発(塗布現像装置、キュア装置、露光安定化、液浸)
 ・ 評価技術(AFM 解析、表面硬化層、汚染洗浄、付着)
 ・ デバイス開発(試作移管、歩留まり改善、工場立ち上げ、多層配線・・)

【業 績】
 論文160報以上、著書38冊、国際学会122報、国内学会212報、招待講演13件、学会講演27件、
 セミナー講演200件など

【役 職】
 各種論文査読委員、NEDO技術委員、公的予算審査委員などを歴任
                                       2021 年9 月現在
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