ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望
 〜EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み〜
■監修者                                               

平井 義彦  大阪公立大学 工学研究科 客員教授/        大阪府立大学 名誉教授/博士(工学) ■執筆者
平井 義彦  大阪公立大学 工学研究科 客員教授/        大阪府立大学 名誉教授/博士(工学) 谷口  淳  東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科 教授        博士(工学) 小松 裕司  コネクテックジャパン株式会社 部長 中村  文  国立研究開発法人産業技術総合研究所 主任研究員/        工学博士 鈴木 健太  国立研究開発法人産業技術総合研究所        先端半導体研究センター 主任研究員/博士(工学) 岩城 友博  Micron Memory Japan, K.K MTS(Member technical staff) 雨宮 智宏  東京科学大学 准教授 永松  周  東京科学大学 西山 伸彦  東京科学大学 教授 森 莉紗子  東京応化工業株式会社 藤井  恭  東京応化工業株式会社 浅井 隆宏  東京応化工業株式会社 塩田  大  東京応化工業株式会社 渥美 裕樹  国立研究開発法人産業技術総合研究所 安藤 格士  東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科 准教授/        博士(工学) 伊藤 俊樹  キヤノン株式会社 半導体機器事業部 主幹
ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 
〜EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および
離型性課題克服に向けた取り組み〜
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