（概要）ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望　～EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み～

ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望　
～EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み～

■注目ポイント
★ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、
半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、
装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しについて紹介！
★ナノインプリント・リソグラフィにおける離型性課題の評価
　と対策を紹介！
★ナノインプリント・リソグラフィの国内外の動向と今後の展
　望とは！？

発刊日	2025年3月31日

定　価	本体50,000円＋税

頁　数	135頁

造　本	B5

発行所	AndTech

ISBN	978-4-909118-79-0

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■監修者　平井 義彦


■章タイトル
第1章　ナノインプリント・リソグラフィの概要・半導体への応用
　第1節　ナノインプリント・リソグラフィのメカニズムと半導体応用に向けて
　第2節　ナノインプリントリソグラフィにおける離型性課題の評価と対策
　第3節　半導体実装へのインプリント技術応用
　第4節　光電融合半導体パッケージの研究開発とナノインプリントへの期待
　第5節　低欠陥・超高速ナノインプリント技術の開発と半導体の微細配線加工に向けた取り組み
　第6節　ナノインプリントリソグラフィの課題とデバイス適用への見通し

第2章　ナノインプリント・リソグラフィ技術における
構造形成プロセス・シミュレーションおよび装置の開発と実用化
　第1節　UV ナノインプリントリソグラフィを導入したシリコンフォトニクスプロセス
　第2節　UV ナノインプリントリソグラフィ充填プロセスの分子動力学シミュレーション
　第3節　半導体製造用ナノインプリントリソグラフィ技術の最新開発状況

第3章　ナノインプリント・リソグラフィの国内外の動向と今後の展望

※購入方法について

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