プロセスインテグレーション技術、メモリセル技術、回路技術を詳述。 　 1995年6月30日 本体50,000円＋税 380頁 A4判　上製 株式会社サイエンスフォーラム 【編集委員】 　塩嵜　　忠　　京都大学工学部電子物性工学教室助教授 　阿部　東彦　　三菱電機(株)半導体基礎研究所所長 　武田　英次　　(株)日立製作所中央研究所ULSI研究部部長 　津屋　英樹　　日本電気(株)研究開発グループ主席研究員 (執筆者全32名) 　 戦略デバイスとしての強誘電体メモリ 　 強誘電体メモリセル技術 　 強誘電体メモリの材料技術 　 強誘電体メモリ回路技術 　 強誘電体メモリプロセス技術(1) ‘成膜装置と技術’ 　 強誘電体メモリの信頼性と評価技術 　 強誘電体メモリプロセス技術(2) ‘プロセスインテグレーション’ 　 マルチメディア時代に期待される 強誘電体メモリのアプリケ−ション 　 Copyright　(C) 2003　NTS Inc. All right reserved.