シリコン半導体や化合物半導体などの製造工程に おけるエッチング技術について、ウェットプロセスと ドライプロセスに分けて解説。 半導体プロセス全体の流れ、各種洗浄技術、半導体や エッチャーの市場動向、今後期待される技術も詳しく紹介。
第1章 半導体の製造プロセスと市場動向 第2章 ウェットエッチング技術 第3章 ドライエッチング技術 第4章 新しいエッチング技術の研究開発動向